UV透射光柵是分光計和采用小型檢測器陣列的其他緊湊型系統的理想選擇。本產品以簡單的方式在波長范圍介于250 – 450nm之間的固定光柵應用中分散光線。在入射光到達的粗紋槽間距時，光線就會在光柵相反面以固定角度被分散開。隨著紋槽間距增大，衍射角度將減小。對偏振光相對不敏感，大體上也對校準錯誤不敏感。

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更新日期：2023-12-19

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平面刻線衍射光柵（12.7x12.7x6mm）制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。

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更新日期：2023-12-17

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平面刻線衍射光柵（25x25x6mm）制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。

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更新日期：2023-12-17

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平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。

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更新日期：2023-12-17

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